Titanium ronde doelwit

Een coating target is een sputterbron die op een substraat wordt gesputterd om functionele films te vormen door magnetron sputtering of andere coatingsystemen onder geschikte procesomstandigheden. Dat wil zeggen, het targetmateriaal is het targetmateriaal van hogesnelheidsladingsenergiedeeltjesbombardement, gebruikt in hoogenergetische laserwapens, verschillende vermogensdichtheden, verschillende outputgolfvormen, verschillende golflengten van laser en verschillende targetmateriaalinteracties zullen verschillende dodelijke en schadelijke effecten produceren.

De productie van titanium sputterdoelen omvat de voorbereiding van grondstofpoeder, voorverwarmen, warmpersen, verwerken en oppervlaktebehandeling. De voorbereiding van grondstoffen is de sleutel tot het waarborgen van de kwaliteit van titanium sputterdoelen. Voorverwarmen en warmpersen zijn belangrijke processtappen voor de productie van titanium sputterdoelen, waardoor uniforme en dichte materialen worden verkregen om de fysieke eigenschappen en chemische eigenschappen van de doelen te waarborgen. De verwerking omvat snijden, vormen en polijsten. Oppervlaktebehandeling omvat reinigen, passiveren, verpakken, enz.

Uitgerust met een geavanceerd proces, dat een langere levensduur heeft. Dankzij de hoge prestaties speelt het ronde titanium doelwit een belangrijke rol in halfgeleiderscheidingsapparaten, vlakke beeldschermen, opslagelektrodefilms, coating van werkstukken, glascoatingindustrie, enz.

Titanium ronde target heeft een breed scala aan toepassingen vanwege de brede band gap, lage diëlektrische constante en temperatuurstabiliteit. De dunne film wordt voornamelijk bereid door magnetron sputteren, waarbij het targetmateriaal een belangrijke basisgrondstof is in het sputtercoatingproces. Uitgerust met uitstekende en supersonische plasmaspuittechnologie, heeft het een hoge warmtebrontemperatuur en een inerte luchtatmosfeer. De spuitafstand is klein. De deeltjes vliegen met hoge snelheid in de plasmastraal, minder snel geoxideerd in het medium, met voordelen voor het spuiten van gemakkelijk oxideerbaar titaniumpoeder.

Hoog smeltpunt: het smeltpunt van titanium is 1668 graden, waardoor het titaniumdoel uitstekende prestaties levert bij hoge temperaturen.

Goede corrosiebestendigheid: titanium heeft een goede corrosiebestendigheid en is bestand tegen corrosie door zuren, alkaliën en andere chemische stoffen. Het kan daarom worden gebruikt bij galvaniseren, elektrolyse, vacuümcoaten en andere industrieën.

Goede stabiliteit: titanium is chemisch stabieler en blijft stabiel presteren in omgevingen met hoge temperaturen, hoge druk en inert gas. Het kan daarom worden gebruikt om bepaalde materialen te bereiden onder hoge temperaturen, hoge druk en inert gas.

Goede elektrische geleiding: titanium target is een goede elektrische geleider en kan daarom worden gebruikt voor de bereiding van elektronische componenten, fotovoltaïsche cellen, micro-elektronische apparaten, enz. Toepassing: scheiding van halfgeleiders, filmcoatingmaterialen, coating van opslagelektroden, sputtercoating, oppervlaktecoating, brillen, elektronica, opto-elektronica, informatietechnologie, chemie, geneeskunde en lucht- en ruimtevaart.

Populaire tags: titanium ronde doel, Chinese titanium ronde doel fabrikanten, leveranciers, fabriek